常州銪冠機(jī)械有限公司

　　在20世紀(jì)初，德國(guó)化學(xué)家Griesheim-Elektron以及俄羅斯化學(xué)家Ivan Ostromislensky和Fritz Klatte都試圖在商業(yè)產(chǎn)品中使用CVD，但是加工剛性，有時(shí)是脆性聚合物的困難阻礙了他們的努力。
　　
　　一些科學(xué)家經(jīng)過(guò)不斷的綜合努力已經(jīng)對(duì)這種CVD方法進(jìn)行了廣泛的研究和優(yōu)化，在具有前體遞送模塊的獨(dú)特系統(tǒng)上開發(fā)，所述前體遞送模塊能夠遞送適合于2D材料生長(zhǎng)的寬范圍的液體/固體/金屬有機(jī)前體。在包括ALD氧化鋁（Al2O3和SiO2）的一系列襯底上提供生長(zhǎng)，該系統(tǒng)能夠沉積其他2D過(guò)渡金屬二硫?qū)倩铮═MDCs），如WS2，MoSe2等。
　　
　　“等離子體處理系統(tǒng)的2D材料處理能力進(jìn)入一個(gè)新階段，”這種工藝開發(fā)及其成熟的結(jié)果對(duì)所有的涂布機(jī)廠家都可以說(shuō)是一件非常令人興奮的事，“等離子體技術(shù)戰(zhàn)略營(yíng)銷和業(yè)務(wù)發(fā)展總監(jiān)說(shuō)道，”分析高質(zhì)量的單層，用AFM顯示所得的平滑和均勻的膜。我們預(yù)計(jì)，這種2D材料增長(zhǎng)的發(fā)展將促進(jìn)下一代納米電子器件。