常州銪冠機(jī)械有限公司

　　常州涂布機(jī)Q150T適用于SEM，TEM和許多薄膜應(yīng)用。它有三種格式可供選擇：作為濺射鍍膜機(jī)，涂布機(jī)碳或兩者在一個(gè)緊湊的系統(tǒng)。旋轉(zhuǎn)泵浦Q150R適用于W-SEM濺射非氧化性（高貴）金屬和碳包覆標(biāo)本進(jìn)行掃描電鏡，EDS和WDS。對(duì)于較大的標(biāo)本中，Q300R T（旋轉(zhuǎn)泵）和Q300T T（渦輪分子泵浦）模型允許一個(gè)單一的大試樣直徑的涂層高達(dá)8“/ 200毫米（例如晶片），或多個(gè)較小的標(biāo)本過(guò)類似的直徑。兩者都三重濺射頭，以保證均勻沉積。

　　涂布機(jī)行業(yè)對(duì)于薄膜應(yīng)用的Q300T D雙序貫?zāi)繕?biāo)濺射鍍膜機(jī)允許，而無(wú)需破壞真空待沉積連續(xù)的金屬層。所述Q150GB是對(duì)ESQ150T設(shè)計(jì)成集成到手套箱中的一個(gè)模塊化的版本。完成范圍是SC7620，緊湊，入門(mén)級(jí)的SEM濺射鍍膜機(jī)其可與可選的碳纖維附著蒸發(fā)。所述SC7620主要設(shè)計(jì)用于涂覆試樣之前檢查在鎢絲的EMS。對(duì)于^需要的應(yīng)用FE-SEM超細(xì)晶粒涂層，高真空鍍膜要求 - 看到Q150T或Q300TT。對(duì)于全自動(dòng)涂布機(jī)W-SEM領(lǐng)域應(yīng)用請(qǐng)看Q150R。
　　
　　操作方便
　　
　　該SC7620是理想的精打細(xì)算的用戶誰(shuí)從一個(gè)易于使用的儀器質(zhì)量要求的薄膜沉積。專為日常應(yīng)用，SC7620采用了基本的磁控濺射頭用一個(gè)簡(jiǎn)單的更換的目標(biāo)盤(pán)（金/鈀金為標(biāo)準(zhǔn)）。濺射頭鉸鏈，易于操作，并配備了電氣安全聯(lián)鎖裝置。甲面板安裝開(kāi)關(guān)允許系統(tǒng)濺射涂覆和輝光放電模式之間改變。為了防止意外損壞高壓引線屏蔽。等離子體電流是通過(guò)調(diào)整使用氬等離子體與泄漏閥被預(yù)置電壓的真空度的變量。為了獲得^大的效率濺射涂覆氣體噴射系統(tǒng)確保氬氣進(jìn)入腔室附近的等離子體放電。通風(fēng)是氬氣。
　　
　　泵送要求
　　
　　合適的旋轉(zhuǎn)式真空泵是必需的。所述法伊弗DUO 6 5立方米/小時(shí)的兩級(jí)旋轉(zhuǎn)式真空泵是理想的這一目的。更多詳情請(qǐng)參見(jiàn)訂購(gòu)信息。循環(huán)時(shí)間短，高度可調(diào)的樣品臺(tái)，100毫米/ 4“直徑的Pyrex筒被安裝在鋁套環(huán)和具有O形環(huán)密封。小尺寸是指真空室抽空時(shí)間和周期時(shí)間是快速的，并也允許使用小經(jīng)濟(jì)旋轉(zhuǎn)泵。樣品載物臺(tái)是高度可調(diào)節(jié)，它可以容易地除去，以適應(yīng)較高的標(biāo)本。淀積速率是由一個(gè)180秒的計(jì)時(shí)器帶15第二分辨率手動(dòng)控制。等離子電流和壓力是通過(guò)模擬儀表監(jiān)控。
　　
　　濺射和SEM碳涂層（可選）
　　
　　該SC7620將沉積涂層適用于鎢絲EMS使用和操作簡(jiǎn)單的優(yōu)勢(shì)，確?？煽啃院瓦m用性用于一般用途。它可以迅速轉(zhuǎn)化為沉積碳通過(guò)加入任選的碳蒸發(fā)附著的，由可切換的電源電壓，一個(gè)碳纖維頭（見(jiàn)：下面SC7620-CF）。碳附件配備了一個(gè)額外的玻璃圓柱體。這是比標(biāo)準(zhǔn)濺射涂布機(jī)滾筒更高，確保了碳纖維和試樣之間的距離是^適合于蒸發(fā)過(guò)程。